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磁过滤真空弧源沉积技术制备C/C多层类金刚石膜及其摩擦磨损性能研究
引用本文:沟引宁,孙鸿,黄楠,张文英,冷永祥.磁过滤真空弧源沉积技术制备C/C多层类金刚石膜及其摩擦磨损性能研究[J].摩擦学学报,2006,26(2):121-124.
作者姓名:沟引宁  孙鸿  黄楠  张文英  冷永祥
作者单位:西南交通大学,材料先进技术教育部重点实验室,四川省人工器官表面工程重点实验室,四川,成都,610031
基金项目:中国科学院资助项目,四川省科技攻关项目
摘    要:采用磁过滤直流阴极真空弧源沉积技术在Si基体和GCr15基体表面制备了C/C多层DLC膜,通过X射线光电子能谱仪分析薄膜结构特征;用原子力显微镜观察C/C多层DLC膜的表面形貌;采用台阶仪测试薄膜厚度;利用纳米硬度仪测试薄膜纳米硬度;在销盘式摩擦磨损试验机上进行C/C多层DLC膜在大气下的摩擦性能评价,同时比较了单层DLC膜、TiN膜和C/C多层DLC膜的耐磨性能.结果表明:C/C多层DLC膜表面光滑、致密,厚度达0.7 μm,硬度高达68 GPa,与SiC球对摩时的摩擦系数为0.10左右,耐磨性明显优于单层DLC膜和TiN膜.

关 键 词:磁过滤阴极真空弧源  C/C多层DLC膜  摩擦磨损性能
文章编号:1004-0595(2006)02-0121-04
收稿时间:2005-03-05
修稿时间:2005-06-31

Fabrication and Tribological Characterization of Multilayer C/C Films Prepared by Filtered Cathodic Vacuum Arc Technology
GOU Yin-ning,SUN Hong,HUANG Nan,ZHANG Wen-ying,LENG Yong-xiang.Fabrication and Tribological Characterization of Multilayer C/C Films Prepared by Filtered Cathodic Vacuum Arc Technology[J].Tribology,2006,26(2):121-124.
Authors:GOU Yin-ning  SUN Hong  HUANG Nan  ZHANG Wen-ying  LENG Yong-xiang
Institution:Sichuan Key laboratory of Surface Engineering of Artificial Organs, Key Laboratory of Advanced Technologies of Materials, Ministry of Education, Southwest Jiaotong University, Chengdu 610031, China
Abstract:
Keywords:filtered cathodic vacuum arc(FCVA)  C/C multilayer films  friction and wear behavior  
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