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十八烯反应膜的制备及其微观摩擦学性能研究
引用本文:周金芳,任忠海,等.十八烯反应膜的制备及其微观摩擦学性能研究[J].摩擦学学报,2002,22(5):399-401.
作者姓名:周金芳  任忠海
作者单位:1. 中国科学院兰州化学物理研究所,固体润滑国家重点实验室,甘肃,兰州,730000
2. 哈尔滨纺织科学研究所,黑龙江,哈尔滨,150070
基金项目:国家自然科学基金资助重点项目 ( 5 0 0 2 30 0 1)
摘    要:通过紫外激发在氢终止的单晶硅表面制得了十八烯的反应膜 ,并采用接触角测定仪、红外光谱仪、椭圆偏光仪及原子力显微镜等表征了薄膜的结构和摩擦学特性 .结果表明 ,在紫外光照射下 ,十八烯在硅表面通过键合生成有序反应膜 ,从而降低硅表面的粘着能和减小摩擦

关 键 词:十八烯  反应膜  氢终止硅表面  AFM
文章编号:1004-0595(2002)05-0399-03
修稿时间:2002年5月12日

Preparation and Nanotribological Behavior of Octadecene Reaction Film on Single Crystal Silicon Substrate
ZHOU Jin-fang,REN Zhong-hai,YANG Sheng-rong.Preparation and Nanotribological Behavior of Octadecene Reaction Film on Single Crystal Silicon Substrate[J].Tribology,2002,22(5):399-401.
Authors:ZHOU Jin-fang  REN Zhong-hai  YANG Sheng-rong
Abstract:
Keywords:octadecene  reaction film  hydrogen-terminated silicon  AFM
本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录!
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