氢气稀释比例对多晶硅薄膜微观结构和沉积特性的影响 |
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引用本文: | 宋莎莎,左潇,魏钰,陈龙威,舒兴胜.氢气稀释比例对多晶硅薄膜微观结构和沉积特性的影响[J].核聚变与等离子体物理,2014(3). |
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作者姓名: | 宋莎莎 左潇 魏钰 陈龙威 舒兴胜 |
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作者单位: | 中国科学院等离子体物理研究所; |
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摘 要: | 利用电感耦合等离子体增强化学气相沉积法(ICP-PECVD)直接在普通玻璃衬底上低温沉积多晶硅薄膜,主要研究了不同氢气稀释比例对薄膜沉积特性和微观结构的影响。采用X射线衍射仪(XRD)、拉曼光谱仪和扫描电子显微镜(SEM)表征了在不同氢气比例条件下所制备多晶硅薄膜的微结构、形貌,并对不同条件下样品的沉积速率进行了分析。实验结果表明:随着混合气体中硅烷比例的增加,薄膜的沉积速率不断增加;晶化率先增加,后减小;当硅烷含量为4.8%时,晶化率达到最大值67.3%。XRD和SEM结果显示多晶硅薄膜在普通玻璃衬底上呈柱状生长,且晶粒排列整齐、致密,这种结构可提高载流子的纵向迁移率,有利于制备高效多晶硅薄膜太阳能电池。
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关 键 词: | 电感耦合等离子体 等离子体增强化学气相沉积 多晶硅薄膜 氢气比例 |
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