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HL—M装置氦辉光放电清洗的清除率研究
引用本文:王志文,张年满.HL—M装置氦辉光放电清洗的清除率研究[J].核聚变与等离子体物理,1998,18(3):56-60.
作者姓名:王志文  张年满
摘    要:通过对HL-1M装置的氦直流辉光放电清洗(He-GDC)的放电特点和清除率的研究,发现环形真空室的对称性导致与阳性截面对称的区域的场强很弱,使其阴极位降区的厚度大于氦离子的平均自由程,严重影响清除率,因此提出了要用多电极不对称阳极电位的辉光放电来提高清除率,同时发现,辉光放电清洗使氢分压比托马克放电的送氢代压强代一个量级上,才能重复进行好的有辅助加料的托卡马放电。

关 键 词:  直流辉光放电  清洗  清除率  托卡马克装置
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