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100kev,20mA多磁极会切场离子源的研制与调试
引用本文:钟溥,刘明哲.100kev,20mA多磁极会切场离子源的研制与调试[J].核聚变与等离子体物理,1991,11(2):116-119,128.
作者姓名:钟溥  刘明哲
作者单位:核工业西南物理研究院,核工业西南物理研究院,核工业西南物理研究院,核工业西南物理研究院,核工业西南物理研究院,核工业西南物理研究院 四川,成都,四川,成都,四川,成都,四川,成都,四川,成都,四川,成都
摘    要:一、引 言 在科学技术领域中,离子源的应用越来越广泛,形成了一门独立的学科——离子应用科学。尤其是70年代以来由于离子注入技术应用到材料表面改性的研究取得进展,从而使离子注入技术得到发展。 离子注入材料表面改性是一门新技术,它的优点是离子注入不通过加热形成特定的原子混合,又能快速引入晶格缺陷,从而改变金属的微观结构及相成分,最后导致金属宏观性质的改变。

关 键 词:会切场  离子源  多磁极

DEVELOPMENT AND ADJUSTMENT OF A lOOkeV 20mA ION SOURCE WITH MULTI-MAGNETIC POLE CUSP FIELD
ZHONG Pu LIU Mingzhe TAO Shihui CHEN Kan ZHANG Kaiwen RAO Shaoying.DEVELOPMENT AND ADJUSTMENT OF A lOOkeV 20mA ION SOURCE WITH MULTI-MAGNETIC POLE CUSP FIELD[J].Nuclear Fusion and Plasma Physics,1991,11(2):116-119,128.
Authors:ZHONG Pu LIU Mingzhe TAO Shihui CHEN Kan ZHANG Kaiwen RAO Shaoying
Abstract:
Keywords:Three beam synchronous implanter  Cusp field  Beam uniformity  
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