| 离子束溅射沉积Ti-Ni薄膜及其电化学性能的研究 |
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| 引用本文： | 崔岩,牟宗信,邹学平,李国卿.离子束溅射沉积Ti-Ni薄膜及其电化学性能的研究[J].核聚变与等离子体物理,2002,22(2):122-124. |
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| 作者姓名： | 崔岩 牟宗信 邹学平 李国卿 |
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| 作者单位： | 大连理工大学三束材料改性国家重点实验室,大连,116023 |
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| 摘 要： | 利用离子束溅射沉积的方法在不同基片温度条件下制备了不同成分的Ti-Ni贮氢薄膜，研究了其电化学贮氢性能。结果表明：用离子束溅射沉积制备的Ti-Ni薄膜的结构为非晶状，薄膜对基片的附着力较强，在冲放电循环50次后仍为非晶态；在基片温度为350℃时制备的薄膜的结构为晶态，在多次放电循环后呈现非晶化趋势；Ti-Ni薄膜具有较高的电化学活性，晶化薄膜比晶态薄膜的最大放电容量高，但晶化薄膜的循环稳定性差。
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| 关 键 词： | 贮氢薄膜 放电容量 钛镍薄膜 碱性蓄电池 离子束溅射沉积 Ti－Ni薄膜 电化学性能 |
| 文章编号： | 0254-6086(2002)02-0122-03 |
| 修稿时间： | 2001年5月10日 |
ELECTROCHEMICAL CHARACTERIZATIONS OF Ti-Ni THIN FILMS PREPARED BY ION BEAM SPUTTERING |
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| CUI Yan,MU Zong xin,ZOU Xue ping,LI Guo qing.ELECTROCHEMICAL CHARACTERIZATIONS OF Ti-Ni THIN FILMS PREPARED BY ION BEAM SPUTTERING[J].Nuclear Fusion and Plasma Physics,2002,22(2):122-124. |
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| Authors: | CUI Yan MU Zong xin ZOU Xue ping LI Guo qing |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | Ion beam sputtering Hydrogen storage films Discharge capacity |
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