| 低能大束斑射频离子源 |
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| 引用本文： | 易书卷,陈开芹.低能大束斑射频离子源[J].核聚变与等离子体物理,1989,9(1):58-60. |
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| 作者姓名： | 易书卷 陈开芹 |
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| 作者单位： | 西南物理研究所，西南物理研究所，西南物理研究所 四川 乐山，四川 乐山，四川 乐山 |
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| 摘 要： | 一、引言 射频离子源素有结构简单。维护运行方便,质子比高等优点;并且造价低,在大规模工业应用上与其他源型相比,具有优越的竞争能力。 目前,仅限于单孔引出,射频离子源最大引出质子流强,均在5mA以下,且没有开发这种离子源型的应用。我们研制的毫安级射频离子源,其特点是低能、大束斑。它除了应用
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| 关 键 词： | 射频离子源 离子辅助镀 表面改性 |
A LOW ENERGY RF ION SOURCE WITH LARGE BEAM SPOT |
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| YI Shujuan CHEN Kaigen HUANG Page.A LOW ENERGY RF ION SOURCE WITH LARGE BEAM SPOT[J].Nuclear Fusion and Plasma Physics,1989,9(1):58-60. |
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| Authors: | YI Shujuan CHEN Kaigen HUANG Page |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | RF ion source Jon deposition Surface modification |
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