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SiC电子霍耳迁移率的计算
引用本文:王平,杨银堂,杨燕.SiC电子霍耳迁移率的计算[J].计算物理,2006,23(1):80-86.
作者姓名:王平  杨银堂  杨燕
作者单位:西安电子科技大学微电子所 宽禁带半导体材料与器件教育部重点实验室, 陕西 西安 710071
基金项目:教育部科学技术研究项目;国防科技预研基金
摘    要:基于对自身能带结构的分析以及各向同性弛豫时间近似法,采用三椭球等能面、抛物线性简化,建立了适于模拟n型6H-SiC电子霍耳迁移率和霍耳散射因子的解析模型,精确描述了不同散射机制对于6H-SiC低场电子输运特性的影响.计算结果与实测值有很好的一致性.

关 键 词:6H碳化硅  电子霍耳迁移率  霍耳散射因子  解析模型  
文章编号:1001-246X(2006)01-0080-07
收稿时间:2004-10-19
修稿时间:2005-02-25

A Calculation of Electron Hall Mobility in SiC
WANG Ping,YANG Yin-tang,YANG Yan.A Calculation of Electron Hall Mobility in SiC[J].Chinese Journal of Computational Physics,2006,23(1):80-86.
Authors:WANG Ping  YANG Yin-tang  YANG Yan
Institution:Ministry of Edu. Key Lab. of Wide Band-Gap Semiconductor Materials and Devices, Microelectronics Institute, Xidian University, Xi′an 710071, China
Abstract:With analysis of conduction band structure and isotropic relaxation time approximation, an analytical model for the electron Hall mobility and Hall scattering factor of n-type 6H-SiC is proposed. The impact of different scattering mechanisms on the low field electron transport in 6H-SiC is illustrated clearly. Three ellipsoidal and parabolic constant energy surfaces simplification are used. The calculated results are in good agreement with physical measurements.
Keywords:6H-SiC  electron Hall mobility  Hall scattering factor  analytical model
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