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低速气流管道中的阀门噪声
引用本文:魏化军,王佐民.低速气流管道中的阀门噪声[J].声学学报,1991(6).
作者姓名:魏化军  王佐民
作者单位:上海同济大学声学研究所,上海同济大学声学研究所 上海 200092 上海市环境监测中心,上海 200092
基金项目:国家自然科学基金资助项目
摘    要:本文将流体力学的基本原理和Lighthill的四极子源理论结合起来用于低速气流管道中的阀门噪声的研究,即把阀门流等效于存在约束边界时的喷注来进行研究。本文导出了低速气流管道阀门下游的平均流速分布,脉冲速度分布和Lighthill四极子源的分布;进而利用数值计算方法对阀门噪声声源的分布规律进行了深入的研究。研究表明,声源强度在径向随г值的增加而逐渐增强,达到峰值后迅速下降,峰值位置在混合层附近;声源强度在轴向随X值的增加而迅速下降,下降速度与面积扩张比K~2(K~2=S_管道/S_阀门)有关,扩张比越大,下降速度越慢。 实验研究不仅验证了上述理论分析的结论;并且再次证明,当扩张比保持不变时,利用众多小孔代替单个阀门孔是控制阀门噪声的一种有效途径。

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