高分辨X射线双晶衍射技术在半导体薄膜材料研究中的应用 |
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引用本文: | 麦振洪.高分辨X射线双晶衍射技术在半导体薄膜材料研究中的应用[J].物理,1992,21(3):181-186. |
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作者姓名: | 麦振洪 |
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作者单位: | 中国科学院物理研究所 北京100080 |
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基金项目: | 国家自然科学基金资助项目 |
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摘 要: | 本文介绍了X射线双晶衍射技术的原理和对半导体外延膜的检测;对普遍关心的衬底与外延膜的 点阵失配、膜厚和成分及其变化的测定、衬底和外延膜完美性的检测以及超晶格结构和非常薄的外延膜 的评价等作了扼要的综述.
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关 键 词: | 半导体 薄膜 X射线 双晶衍射 |
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