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高分辨X射线双晶衍射技术在半导体薄膜材料研究中的应用
引用本文:麦振洪.高分辨X射线双晶衍射技术在半导体薄膜材料研究中的应用[J].物理,1992,21(3):181-186.
作者姓名:麦振洪
作者单位:中国科学院物理研究所 北京100080
基金项目:国家自然科学基金资助项目
摘    要:本文介绍了X射线双晶衍射技术的原理和对半导体外延膜的检测;对普遍关心的衬底与外延膜的 点阵失配、膜厚和成分及其变化的测定、衬底和外延膜完美性的检测以及超晶格结构和非常薄的外延膜 的评价等作了扼要的综述.

关 键 词:半导体  薄膜  X射线  双晶衍射
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