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| 2000年国际应用光谱学会议在昆明召开 | |
| 引用本文： | 李艳辉.2000年国际应用光谱学会议在昆明召开[J].物理,2000(12). |
| 作者姓名： | 李艳辉 |
| 作者单位： | 昆明理工大学材料与冶金工程学院 |
| 摘 要： | 20 0 0年 8月 2 7日 ,来自中国、美国、德国、瑞士、巴西、新加坡等国的科学家 4 0余人汇聚昆明 ,举行了为期四天的应用光谱学会议 .作为第 17届国际拉曼光谱会议 2 0 0 0年北京会议的卫星会 ,与会者主要集中对固体强关联材料、半导体超晶格等材料中的光谱研究进行了深入的交流 .欧洲材料学会上届主席Ｈ .Ｕ .Ｈａｂｅｒｍｅｉｅｒ教授就拉曼光谱在高温超导、超巨磁电阻方面的应用和新结果进行了大会报道 .美国休斯顿大学超导中心的Ｍ .Ｉｌｉｅｖ教授总结了迄今他们在ＣＭＲ材料中的拉曼研究结果 ,引起了与会者的极大兴趣 .昆明理工大学的… |
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