X荧光光谱分析中的薄样背比法 |
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引用本文: | 何去奢.X荧光光谱分析中的薄样背比法[J].物理,1984(11). |
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作者姓名: | 何去奢 |
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作者单位: | 中国科学院新疆物理研究所 |
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摘 要: | 薄样法在X射线荧光光谱分析中应用较为普遍.它的增强、吸收效应很弱,背景低,在很大浓度范围内强度与浓度呈线性关系1].但是,由于其分析线强度低,分析下限只达千分之几2],而且分析线强度随膜的厚度而变(厚度效应),所以限制了薄样法的应用范围和它的准确度. 我们研究了薄样散射背景强度随厚度变化的规律,发现薄样散射背景强度随厚度变化的规律与分析线强度变化的规律相似,可以用它们的比值来校正薄样的厚度效应和厚膜的吸收效应.这就为增加薄样厚度以增强分析线强度,进行痕量分析,提供了一个简单、快速、经济,准确的分析方法. 一、薄样散射…
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