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| 全息离子束刻蚀衍射光栅 | |
| 引用本文： | 徐向东,洪义麟,傅绍军,王占山.全息离子束刻蚀衍射光栅[J].物理,2004,33(5):340-344. |
| 作者姓名： | 徐向东 洪义麟 傅绍军 王占山 |
| 作者单位： | 1. 同济大学物理系,上海,200092;中国科学技术大学,国家同步辐射实验室,合肥,230029 2. 中国科学技术大学,国家同步辐射实验室,合肥,230029 3. 同济大学物理系,上海,200092 |
| 基金项目： | 国家高技术研究发展计划 (批准号 :80 4-9-2 )，中国科学院二期创新资助项目 |
| 摘 要： | 全息离子束刻蚀衍射光栅集中了机械刻划光栅的高效率和全息光栅的无鬼线、低杂散光、高信噪比的优点．全息离子束刻蚀已作为常规工艺手段应用于真空紫外及软x射线衍射光栅的制作．文章对全息离子束刻蚀衍射光栅的制作方法、主要类型、研究现状和应用进行了综述． |
| 关 键 词： | 衍射光栅 全息光刻 离子束刻蚀 全息光学 全息光栅 光栅制作 |
Holographic ion beam etched diffraction gratings |
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| Abstract: | A holographic ion beam etched diffraction grating collects has as high a diffraction efficiency as classical ruled gratings yet with no ghosts, lower stray light and higher signal-to-noise ratio, as with holographic gratings. Holographic ion beam etching has become a routine technique for fabricating vacuum ultraviolet and soft X-ray diffraction gratings. The fabrication process, main types and applications of these gratings in X\|ray space physics, synchrotron radiation and inertial confinement fusion are discussed briefly. |
| Keywords: | diffraction grating holographic lithography ion beam etching |
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