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| 离子溅射(Ⅰ) | |
| 引用本文： | 田民波,崔福斋.离子溅射(Ⅰ)[J].物理,1987(3). |
| 作者姓名： | 田民波 崔福斋 |
| 作者单位： | 清华大学工程物理系 (田民波)，清华大学工程物理系(崔福斋) |
| 摘 要： | 荷能粒子轰击固体表面,打出离子和中性原子的现象称为溅射.由于离子易于在电磁场中加速或偏转,所以荷能粒子一般为离子,称这种溅射为离子溅射.随着真空技术、薄膜技术、表面分析技术以及表面科学的发展。离子溅射的用途越来越广泛,其重要性也日益为人们所共知.如今,离子溅射在溅射离子源、二次离子质谱分析(SIMS)、离子束分析、溅射镀膜、离子镀、离子和离子束刻蚀、表面微细加工等领域有广泛的应用.同时,溅射理论在分析核材料的辐照损伤,防止聚变堆中的等离子体沾污,研究离子注入、离子束混合等方面也有重要意义. 离于溅射理论经历了漫长… |
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