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| 等离子体源离子注入——一种材料表面改性的新技术 | |
| 引用本文： | 陈英方,吴知非.等离子体源离子注入——一种材料表面改性的新技术[J].物理,1991(12). |
| 作者姓名： | 陈英方 吴知非 |
| 作者单位： | 中国纺织大学应用物理教研室 上海200051 (陈英方)，中国纺织大学应用物理教研室 上海200051(吴知非) |
| 摘 要： | 本文介绍了近几年发展起来的一种新型离子注入技术——等离子体源离子注入（Ｐｌａｓｍａ Ｓｏｕｒｃｅｌｏｎ ｌｍｐｌａｎｔａｔｉｏｎ，简称 ＰＳＩＩ）——的原理、装置和应用．除可应用于半导体外，这一技术应可满足金属或非金属材料表面改性的需要．实践证明它是一种极有开拓前景的离子注入技术． |
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