| 铁电薄膜、多层膜及异质结构研究 |
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| 引用本文： | 朱信华,刘治国.铁电薄膜、多层膜及异质结构研究[J].物理,1999,28(2):68-73. |
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| 作者姓名： | 朱信华 刘治国 |
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| 作者单位： | 南京大学固体微结构物理国家重点实验室 |
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| 基金项目： | 国家攀登计划,江苏省自然科学基金,南京大学固体微结构物理国家重点实验室开放课题 |
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| 摘 要： | 综述了铁电薄膜，多层膜和异质结构研究的新进展，分析了铁电薄膜不同制备方法的优缺点，重点介绍了铁电薄膜在铁电存储器，微电子机械系统及热释电红外探测器方面的应用，指出了目前铁电薄膜及器件设计研究需要重点解决一些问题。
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| 关 键 词： | 铁电薄膜 多层膜 异质结构 制备 薄膜器件 |
FERROELECTRIC THIN FILMS,MULTILAYERED FILMS AND HETEROSTRUCTURES |
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| Zhu Xinhua\ \ Liu Zhiguo.FERROELECTRIC THIN FILMS,MULTILAYERED FILMS AND HETEROSTRUCTURES[J].Physics,1999,28(2):68-73. |
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| Authors: | Zhu Xinhua\ \ Liu Zhiguo |
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| Abstract: | Recent studies on ferroelectric thin films,multilayered films and heterostructures are reviewed.The advantages and disadvantages of different processing methods for ferroelectric thin films are discussed.Applications of the films,especially in ferroelectric memories,microelectromechanical systems and pyroelectric infrared detectors are described.Some key problems are outlined. |
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| Keywords: | ferroelectric thin films multilayered films heterostructures processing methods applications thin film devices |
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