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| 薄膜物理及其应用讲座——第十讲 低维材料的X射线衍射(Ⅱ) | |
| 引用本文： | 麦振洪.薄膜物理及其应用讲座——第十讲 低维材料的X射线衍射(Ⅱ)[J].物理,1996(5). |
| 作者姓名： | 麦振洪 |
| 作者单位： | 中国科学院物理研究所!北京 100080 |
| 摘 要： | ３．４ 横向周期结构薄膜制备工艺的不断发展，目前已能制备几个原子层厚度的超薄结构，因此人们越来越关注这些低维结构中的量子限制效应，如量子线、量子点等．它们不仅具有丰富的物理内涵，而且具有巨大的应用潜力．表面周期结构的周期可以应用光学干涉方法来测定，但其分辨率受到光波波长的限制，高分辨Ｘ射线衍射提供了一种对低维材料横向周期结构高精度、非破坏的测定方法．３．４．１皱折的表面近年来，Ｔａｐｆｅｒ等人对皱折表面的Ｘ射线衍射在理论上和实验上都作了研究［９，１０］．他们应用光刻和腐蚀方法，在ＧａＡｓ表面刻出… |
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