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基于ZnS金属网栅制作工艺的改进
引用本文:陈赟,李艳茹,张红胜.基于ZnS金属网栅制作工艺的改进[J].中国光学,2014(1).
作者姓名:陈赟  李艳茹  张红胜
作者单位:中国科学院长春光学精密机械与物理研究所;
基金项目:中国科学院长春光学精密机械与物理研究所三期创新资助项目(No.Y00332H100)
摘    要:为了制作基于ZnS的对雷达波高效电磁屏蔽的金属网栅,采用了一种新型的先胶后镀的光刻复制工艺。但在制作过程中,发现影响金属网栅成品率的主要因素为ZnS材料的颜色,即由于多晶ZnS的颜色和所用光刻胶的颜色相似,很难判断网栅是否显影彻底,进而影响真空镀膜过程中金属网栅膜的形成。结合金属网栅的制作工艺,通过采用镀一层过渡膜的方式,即采用镀膜、涂胶、显影、腐蚀、镀膜、去胶、腐蚀的工艺,有效地解决了ZnS颜色带来的影响。实验表明,采用该工艺一次性成功制作出线宽为8μm、周期为400μm的金属网栅。该工艺使基于ZnS金属网栅的成品率在90%以上。

关 键 词:金属网栅  多晶ZnS  光刻复制工艺  光刻胶
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