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| 基于随机并行梯度速降算法的光刻机光源与掩模联合优化方法 | |
| 引用本文： | 李兆泽,李思坤,王向朝.基于随机并行梯度速降算法的光刻机光源与掩模联合优化方法[J].光学学报,2014(9). |
| 作者姓名： | 李兆泽 李思坤 王向朝 |
| 作者单位： | 中国科学院上海光学精密机械研究所信息光学与光电技术实验室;中国科学院大学; |
| 基金项目： | 国家自然科学基金(61275207,61205102) |
| 摘 要： | 随着集成电路特征尺寸进入2Xnm及以下节点,光源与掩模联合优化(SMO)成为了拓展193nm ArF浸没式光刻工艺窗口、减小工艺因子的重要分辨率增强技术(RET)之一。提出了一种基于随机并行梯度速降(SPGD)算法的SMO方法,通过随机扰动进行梯度估计,利用估计梯度来迭代更新光源与掩模,避免了求解梯度解析表达式的过程,降低了优化复杂度。对周期接触孔阵列及十字线、密集线三种掩模图形的仿真验证表明,三种掩模图形误差(PE)值分别降低了75%、80%与70%,该方法较大程度地提高了光刻成像质量。 |
| 关 键 词： | 光学制造 光刻 光源与掩模联合优化 分辨率增强技术 工艺窗口 |
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