| 聚焦电子束对透射式微焦点X射线源的影响 |
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| 引用本文： | 牛耕,刘俊标,赵伟霞,韩立,马玉田.聚焦电子束对透射式微焦点X射线源的影响[J].光学学报,2019,39(6):408-414. |
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| 作者姓名： | 牛耕 刘俊标 赵伟霞 韩立 马玉田 |
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| 作者单位： | 中国科学院电工研究所超导与新材料应用研究实验室,北京100190;中国科学院大学,北京100049;中国科学院电工研究所超导与新材料应用研究实验室,北京,100190 |
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| 基金项目： | 国家重大科学仪器设备开发专项;中国科学院关键技术人才项目;中国科学院关键技术人才项目 |
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| 摘 要： | 微焦点X射线源是微计算机断层扫描技术设备的核心部件。研究了电子束在靶材中的横向扩散引起的透射式微焦点射线源的焦点尺寸和强度的变化规律。结果表明:当打靶电子束的束流密度遵循高斯分布时,其产生的X射线强度也遵循高斯分布,该分布的标准差可以用来精确表示X射线的焦点尺寸;当靶材厚度可以使沉积电子束的能量达到60%时,对应的靶材产生的X射线强度最高;随着靶材厚度增加,X射线的焦点尺寸逐渐变大;增大电子束的加速电压可以适当减小X射线的焦点。本研究为透射式微焦斑X射线源的靶材选择和设计提供了理论依据。
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| 关 键 词： | X射线光学 微计算机断层扫描技术 X射线焦点 电子束 扩散 |
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