| 基态HF分子和介质消耗对重复频率脉冲HF激光输出的影响 |
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| 引用本文： | 朱峰,黄珂,陶波,黄超,李高鹏,沈炎龙,栾昆鹏.基态HF分子和介质消耗对重复频率脉冲HF激光输出的影响[J].光学学报,2019,39(2):231-235. |
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| 作者姓名： | 朱峰 黄珂 陶波 黄超 李高鹏 沈炎龙 栾昆鹏 |
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| 作者单位： | 西北核技术研究所激光与物质相互作用国家重点实验室,陕西 西安,710024;西北核技术研究所激光与物质相互作用国家重点实验室,陕西 西安,710024;西北核技术研究所激光与物质相互作用国家重点实验室,陕西 西安,710024;西北核技术研究所激光与物质相互作用国家重点实验室,陕西 西安,710024;西北核技术研究所激光与物质相互作用国家重点实验室,陕西 西安,710024;西北核技术研究所激光与物质相互作用国家重点实验室,陕西 西安,710024;西北核技术研究所激光与物质相互作用国家重点实验室,陕西 西安,710024 |
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| 基金项目： | 激光与物质相互作用国家重点实验室基金 |
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| 摘 要： | 研究了氟化氢(HF)分子浓度以及工作介质消耗对激光脉冲能量的影响。受激光器内基态HF分子对激光的再吸收以及对激发态分子强弛豫的影响,激光脉冲能量随着激光器内HF分子浓度的升高而明显下降,HF分子浓度每增加1×10~(15) cm~(-3),激光脉冲能量约下降1.15%。1个激发态HF分子约产生0.8个光子,放电区内SF_6气体的分解率约为1%,单次放电过程中激光器内所消耗的工作介质较少,约为气体总量的1/(2×10~5)。实验结果表明:HF分子浓度对激光脉冲能量的影响较大,介质消耗对激光脉冲能量影响较小;通过在激光器内加入分子筛,可以将HF浓度控制在1.8×10~(15) cm~(-3)的水平。在两个因素的共同影响下,激光脉冲能量下降率约为10%。
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| 关 键 词： | 激光器 中红外激光 HF激光 脉冲能量 解离率 |
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