| 深蚀刻二元光学元件 |
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| 引用本文： | 徐平,姜念云.深蚀刻二元光学元件[J].光学学报,1996,16(12):796-1801. |
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| 作者姓名： | 徐平 姜念云 |
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| 作者单位： | 四川大学信息光学研究所，中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金,中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室资助 |
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| 摘 要： | 提出一种新颖的，蚀刻位相深度超过２π的深蚀刻二元光学技术，并从理论上分析深蚀刻二元光这元件与衍射效率的关系，然后用计算机进行模拟与分析，得到深蚀刻二元光学元件特性后一些初步研究结果。
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| 关 键 词： | 深刻蚀 衍射光学 二元光学元件 |
| 收稿时间： | 1995/9/26 |
Deep Etch Binary Optics Element |
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| Xu Ping,Tan Jiyue,Guo Lurong,Guo Yongkang,Yang Jiafa.Deep Etch Binary Optics Element[J].Acta Optica Sinica,1996,16(12):796-1801. |
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| Authors: | Xu Ping Tan Jiyue Guo Lurong Guo Yongkang Yang Jiafa |
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| Abstract: | A novel deep etch binary optics element with phase depth exceeded 2π is developed. The relationship between deep etch binary element and diffrative efficiency is analysed theoretically and simulated by computer. The preliminary results about characteristics of the deep etch binary optics element are obtained. |
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| Keywords: | deep etch diffrative optics binary optics element |
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