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单一蒸发源膜厚分布的均匀性
引用本文:
付秀华,赵迪,卢成,马国俊,鲍刚华.单一蒸发源膜厚分布的均匀性[J].光学学报,2019,39(12):417-421.
作者姓名:
付秀华
赵迪
卢成
马国俊
鲍刚华
作者单位:
长春理工大学光电工程学院,吉林长春130022;成都国泰真空设备有限公司,四川成都611130
摘 要:
关 键 词:
薄膜
光学镀膜
膜厚均匀性
修正板
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