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单一蒸发源膜厚分布的均匀性
引用本文:付秀华,赵迪,卢成,马国俊,鲍刚华.单一蒸发源膜厚分布的均匀性[J].光学学报,2019,39(12):417-421.
作者姓名:付秀华  赵迪  卢成  马国俊  鲍刚华
作者单位:长春理工大学光电工程学院,吉林长春130022;成都国泰真空设备有限公司,四川成都611130
摘    要:

关 键 词:薄膜  光学镀膜  膜厚均匀性  修正板
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