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空间光学元件超精密气囊抛光的去除特性研究
引用本文:李洪玉,张伟,于国彧.空间光学元件超精密气囊抛光的去除特性研究[J].光学学报,2009,29(3).
作者姓名:李洪玉  张伟  于国彧
作者单位:1. 哈尔滨工业大学空间光学工程研究中心,黑龙江,哈尔滨,150001
2. 英国国家超精密光学表面实验室,UK,LL17
基金项目:国家高技术研究发展计划(863计划) 
摘    要:为得到空间光学元件超光滑表面,对超精密气囊抛光方法的去除特性进行了理论和实验研究.以Preston方程为基础,应用运动学原理建立了气囊抛光"进动"运动的材料去除模型,针对抛光气囊工具的物理特性,按照Hertz接触理论对去除模型进行了修正;利用计算机仿真的方法,分析了几个主要工艺参数对"进动"抛光运动去除特性的影响规律,并在超精密光学数控抛光机上进行了正交实验;仿真和实验结果吻合较好,总结得到4点气囊抛光方法中重要的结论,给出了"进动"角与压缩量的取值范围,以此得到了面型精度RMS值为0.024λ(λ=0.6328 μm)的超光滑表面,为开展光学元件气囊抛光工艺研究提供依据.

关 键 词:空间光学  气囊抛光  去除特性  Preston方程  Hertz接触理论

Removing Characteristics of Ultraprecise Bonnet Polishing on Spatial Optics Elements
Li Hongyu,Zhang Wei,Yu Guoyu.Removing Characteristics of Ultraprecise Bonnet Polishing on Spatial Optics Elements[J].Acta Optica Sinica,2009,29(3).
Authors:Li Hongyu  Zhang Wei  Yu Guoyu
Abstract:
Keywords:
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