|
|||||
|
|
| 电荷耦合器件饱和效应对PIE成像质量的影响 | |
| 引用本文： | 王宝升,高淑梅,王继成,朱健强,刘诚.电荷耦合器件饱和效应对PIE成像质量的影响[J].光学学报,2013(6):73-78. |
| 作者姓名： | 王宝升 高淑梅 王继成 朱健强 刘诚 |
| 作者单位： | 江南大学理学院光信息科学与技术系;中国科学院上海光学精密机械研究所联合实验室 |
| 基金项目： | 江苏省自然科学基金(BK2012548)资助课题 |
| 摘 要： | 在研究电荷耦合器件(CCD)饱和效应对PIE成像质量影响的基础上,提出了一种改进的重建算法。该方法可以从发生部分饱和的数据重建出准确的再现像。和现有的方法相比,此方法可以在保证分辨率不受影响的条件下,大幅度缩短数据采集时间,因此可显著降低对实验装置和样品稳定性的要求,对PIE方法的推广应用有重要的实际意义。 |
| 关 键 词： | 成像系统 相干衍射成像 相位恢复 显微成像 PIE |
| 本文献已被 CNKI 等数据库收录！ | |