熔石英亚表面球形杂质对入射光场的调制作用 |
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引用本文: | 田润妮,邱荣,蒋勇,周强.熔石英亚表面球形杂质对入射光场的调制作用[J].光学学报,2015(4):227-233. |
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作者姓名: | 田润妮 邱荣 蒋勇 周强 |
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作者单位: | 西南科技大学-中国工程物理研究院激光聚变中心极端条件物质特性联合实验室 |
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基金项目: | 国家自然科学基金-中国工程物理研究院联合基金(10976025) |
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摘 要: | 建立激光辐照下熔石英体内球形杂质引起元件损伤的模型。基于Mie理论计算杂质的散射系数,研究杂质颗粒附近的调制光场分布,分析光强增强因子(LIEF)与杂质折射率及半径的关系。结果显示,杂质颗粒半径小于40 nm时,所有类型杂质对光场的调制作用可以忽略;颗粒半径大于40 nm时,对于折射率小于熔石英的非耗散杂质,LIEF随颗粒半径的增大和折射率的减小而增大,且后向散射远强于前向散射;对于折射率大于熔石英的非耗散杂质,随着折射率和半径的增大,LIEF整体趋势增大,局部达到102量级。对于耗散杂质,前向散射强度随颗粒半径的增大先增大后减小,当颗粒半径大于170 nm时,后向散射强于前向散射。
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关 键 词: | 激光光学 光强增强因子 Mie理论 熔石英 |
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