| Er2O3薄膜的光学常数和介电性能 |
| |
| 引用本文： | 刘传标,魏爱香,刘毅.Er2O3薄膜的光学常数和介电性能[J].光学学报,2009,29(6). |
| |
| 作者姓名： | 刘传标 魏爱香 刘毅 |
| |
| 作者单位： | 1. 广东工业大学材料与能源学院,广东,广州,510060
2. 深圳大学物理科学与技术学院,广东,深圳,518060 |
| |
| 基金项目： | 广东工业大学人才引进基金 |
| |
| 摘 要： | 采用射频磁控反应溅射技术,在不同的Ar/O2流量比条件下制备了系列Er2O3薄膜样品.采用椭偏光谱和紫外一可见光透射光谱测试分析技术,研究了Er2O3薄膜的折射率、消光系数、透射率和光学带隙等光学常数与制备工艺的关系.研究了不同条件下制备的Er2O3薄膜的介电常数和Ⅰ～Ⅴ特性.结果表明,Er2O3薄膜的折射率、禁带宽度和介电常数随Ar/O2流鼍比的增加而增加,而消光系数基本不随Ar:O2流量比的变化而变化.在Ar:O2流量比为7:1制备的Er2O3薄膜具有较好的物理性能,在可见红外波段其折射率约1.81,消光系数为3.7×10-6,禁带宽度5.73 eV,介电常数为10.5.
|
| 关 键 词： | 薄膜光学 氧化铒薄膜 磁控反应溅射 光学常数 介电性能 |
Optical Constant and Dielectric Properties of Erbium Oxide Thin Films |
| |
| Liu Chuanbiao,Wei Aixiang,Liu Yi.Optical Constant and Dielectric Properties of Erbium Oxide Thin Films[J].Acta Optica Sinica,2009,29(6). |
| |
| Authors: | Liu Chuanbiao Wei Aixiang Liu Yi |
| |
| Abstract: | |
| |
| Keywords: | |
| 本文献已被 万方数据 等数据库收录！ |
|
