| LBO晶体上1064 nm,532 nm二倍频增透膜的制备和性能 |
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| 引用本文： | 谭天亚,邵建达,范正修,于撼江,吴炜,郭永新.LBO晶体上1064 nm,532 nm二倍频增透膜的制备和性能[J].光学学报,2009,29(7). |
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| 作者姓名： | 谭天亚 邵建达 范正修 于撼江 吴炜 郭永新 |
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| 作者单位： | 1. 辽宁大学物理学院,辽宁沈阳110036;沈阳市光电子功能器件与检测技术重点实验室,辽宁沈阳110036
2. 中国科学院上海光学精密机械研究所光学薄膜技术研发中心,上海,201800 |
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| 基金项目： | 辽宁省教育厅科研计划，沈阳市科学技术计划(1071115-1-00)资助课题 |
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| 摘 要： | 采用电子束蒸发方法在三硼酸锂(LBO)晶体上制备了1064 nm,532 nm二倍频增透膜.利用Lambda900分光光度计、MTSNanoIndenter纳米力学综合测试系统以及调Q脉冲激光装置对样品的光学性能、附着力和激光损伤阈值进行了分析测试.结果表明,通过多次实验,不断改进薄膜沉积工艺条件,在LBO晶体上获得了综合性能优异的二倍频增透膜.样品在1064 nm,532 nm波长的剩余反射率分别为0.07%和0.16%,薄膜粘附失效的临界附着力和激光损伤阈值分别为137.4 mN和15.14 J/cm2,薄膜激光损伤发生在Al2O3膜层.
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| 关 键 词： | 薄膜光学 二倍频增透膜 LBO晶体 附着力 激光损伤阈值 |
Study on Preparation and Performances of 1064 nm, 532 nm Frequency-doubled Antireflection Coating for LBO |
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| Tan Tianya,Shao Jianda,Fan Zhengxiu,Yu Hanjiang,Wu Wei,Guo Yongxin.Study on Preparation and Performances of 1064 nm, 532 nm Frequency-doubled Antireflection Coating for LBO[J].Acta Optica Sinica,2009,29(7). |
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| Authors: | Tan Tianya Shao Jianda Fan Zhengxiu Yu Hanjiang Wu Wei Guo Yongxin |
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