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纳米精度外差干涉仪非线性漂移的研究
引用本文:戴高良,谢广平.纳米精度外差干涉仪非线性漂移的研究[J].光学学报,1998,18(12):697-1702.
作者姓名:戴高良  谢广平
作者单位:清华大学精密仪器与机械学系,中国矿业大学北京研究生部
基金项目:国家教委博士点基金,精密测试技术与仪器国家重点实验室开放基金
摘    要:在纳米精度外差干涉仪中,由于非线性温度漂移,成为外差干涉仪实现纳米精度测量的重要误差源。本文对差动干涉仪的理论分析得出如下的结论,干涉仪中除了测量光路和参考光路以外,还存在参考光误差分量和测量光误差分量的额外光路,从而引和了干涉混叠,产生非线性漂移:1/4波片的相位延迟量误差和安装是引入非线性漂移的主要因素,其影响程度是一阶的,提高波片对加工精度,并尽量减少其级数可降低非线性漂移。

关 键 词:外差干涉仪  非线性漂移  纳米测量  波片
收稿时间:1997/6/9

Study on Drift of Nonlinearity in Nanometer Precision Heterodyne Interferometers
Dai Gaoliang,Yin Chunyong.Study on Drift of Nonlinearity in Nanometer Precision Heterodyne Interferometers[J].Acta Optica Sinica,1998,18(12):697-1702.
Authors:Dai Gaoliang  Yin Chunyong
Abstract:Study on nonlinearity of differential heterodyne interferometer indicates that nonlinearity of heterodyne interferometer drifts with thermal modulation. This drift of nonlinearity is of particular importance in nanometer measurement. Theoretical analysis shows that the ratardation error and orientation error of the wave plate are the main reason, its influence is in the first order. These conclusions fit well with the experiment results.
Keywords:heterodyne interferometer    nonlinearity    nonlinearity drift    nanometer measurement    wave plate    
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