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不同厚度溅射Ag膜的微结构及光学常数研究
引用本文:何玉平,吴桂芳,李爱侠,孙兆奇.不同厚度溅射Ag膜的微结构及光学常数研究[J].光学学报,2002,22(6):78-682.
作者姓名:何玉平  吴桂芳  李爱侠  孙兆奇
作者单位:1. 安徽大学物理系,合肥,230039
2. 安徽大学物理系,合肥,230039;中国科学院固体物理所内耗与固体缺陷开放实验室,合肥,230031
基金项目:国家自然科学基金 (5 9972 0 0 1),安徽省自然科学基金 (0 10 4 4 90 1),安徽省教育厅科研基金 (99JL0 0 2 4 )资助课题。
摘    要:用直流溅射法在室温Si基片上制备了4.9nm-189.0nm范围内不同厚度的Ag薄膜,并用X射线衍射及反射式椭偏光谱技术对薄膜的微结构和光学常数进行了测试分析。结构分析表明:制备的Ag膜均呈多晶状态,晶体结构仍为面心立方;随膜厚增加薄膜的平均晶粒心潮6.3nm逐渐增大到14.5nm;薄膜晶格常数均比标准值(0.40862nm)稍小,随膜厚增加,薄膜晶格常数由0.40585nm增大到0.40779nm。250nm-830nm光频范围椭偏光谱测量结果表明:与Johnson的厚Ag膜数据相比,我们制备的Ag薄膜光学折射率n总体上均增大,消光系数k变化复杂;在厚度为4.9nm-83.7nm范围内,实验薄膜的光学常数与Johnson数据差别很大,厚度小于33.3nm的实验薄膜k谱线中出现吸收峰,峰位由460nm红移至690nm处,且其对应的峰宽逐渐宽化;当膜厚达到约189nm时,实验薄膜与Johnson光学常数数据已基本趋于一致。

关 键 词:溅射Ag薄膜  微结构  光学常数  椭偏光谱  薄膜厚度  银薄膜

Microstructure and Optical Constants of Sputtering Ag Films with Different Thicknesses
He Yuping,Wu Guifang,Li Aixia,Sun Zhaoqi.Microstructure and Optical Constants of Sputtering Ag Films with Different Thicknesses[J].Acta Optica Sinica,2002,22(6):78-682.
Authors:He Yuping  Wu Guifang  Li Aixia  Sun Zhaoqi
Institution:He Yuping Wu Guifang Li Aixia Sun Zhaoqi Department of Physics,Anhui University,Hefei 230039 Laboratory of Internal Friction and Defects in Solids,Institute of Solid State Physics,The Chinese Academy of Sciences,Hefei 230031
Abstract:
Keywords:sputtering Ag films  microstructure  optical constants  ellipsometry
本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录!
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