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| 光刻机照明光场均匀性高精度校正方法研究 | |
| 引用本文： | 程伟林,张方,林栋梁,曾爱军,杨宝喜,黄惠杰.光刻机照明光场均匀性高精度校正方法研究[J].光学学报,2018(7). |
| 作者姓名： | 程伟林 张方 林栋梁 曾爱军 杨宝喜 黄惠杰 |
| 作者单位： | 中国科学院上海光学精密机械研究所信息光学与光电技术实验室;中国科学院大学 |
| 摘 要： | 提出了应用于光刻机照明系统照明光场均匀性的高精度校正方法,该方法通过优化手指阵列式均匀性校正器中校正手指前端的形状及其排布方式来提高校正能力和精度。仿真结果表明:当校正手指错开排布时,手指阵列式均匀性校正器的校正精度优于0.2%;当校正手指的前端有倒斜角且双层错开排布时,手指阵列式均匀性校正器的校正精度优于0.16%,比常规手指阵列式均匀性校正器的校正精度提高约一倍。 |
| 本文献已被 CNKI 等数据库收录！ | |