光谱法确定离子束溅射Ta_2O_5/SiO_2薄膜的光学常数及其性能 |
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引用本文: | 尚鹏,熊胜明,李凌辉,田东.光谱法确定离子束溅射Ta_2O_5/SiO_2薄膜的光学常数及其性能[J].光学学报,2014(5):306-312. |
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作者姓名: | 尚鹏 熊胜明 李凌辉 田东 |
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作者单位: | 中国科学院光电技术研究所;中国科学院大学; |
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摘 要: | 采用双离子溅射的方法,在硅、石英基底上制备了单层Ta2O5、SiO2及双层Ta2O5/SiO2光学薄膜。结合Cauchy色散模型,利用石英基底上单层Ta2O5及双层Ta2O5/SiO2薄膜透射光谱曲线,采用改进的遗传单纯形混合算法,获得了Ta2O5和SiO2薄膜材料在400~700nm波段的光学常数。结果表明,理论分析值与实验测量值取得了很好的一致性,拟合出的单层Ta2O5薄膜折射率误差小于0.001,膜层厚度误差不超过1nm;双层Ta2O5/SiO2薄膜最大折射率误差小于0.004,最大厚度误差小于2.5nm。此外,还对400℃高温环境下双层Ta2O5/SiO2薄膜的微观结构、应力、表面形貌及光学性能变化进行了研究。
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关 键 词: | 薄膜 光学常数 透射光谱 TaO/SiO |
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