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Cu/Ti超晶格薄膜的强紫外反射性能研究
引用本文:罗佳慧,李燕,杨成韬.Cu/Ti超晶格薄膜的强紫外反射性能研究[J].光学学报,2001,21(6):73-675.
作者姓名:罗佳慧  李燕  杨成韬
作者单位:电子科技大学信息材料工程学院,
摘    要:采用直流磁控溅射方法制备了一维二组元Cu/Ti周期超晶格金属薄膜 ,研究了基片温度、膜周期数、基片取向与紫外反射的关系。当基片加热温度为 470℃时 ,在硅 (10 0 )晶面上生长的 30层Cu/Ti膜 ,层间膜厚控制在1∶3、膜总厚度控制为 30 0nm时 ,所制备的超晶格薄膜在 5°入射角下对 2 0 0nm的紫外光 ,其反射率可高达 90 %。

关 键 词:磁控溅射  超晶格膜  紫外光  反射率

Strong UV Reflecting Characteristics of Cu/Ti Superlattic Films
Luo Jiahui,Li Yan,Yang Chengtao.Strong UV Reflecting Characteristics of Cu/Ti Superlattic Films[J].Acta Optica Sinica,2001,21(6):73-675.
Authors:Luo Jiahui  Li Yan  Yang Chengtao
Abstract:
Keywords:magnetron sputtering  Cu/Ti superlattice film  UV-light  reflectivity
本文献已被 CNKI 万方数据 等数据库收录!
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