| 用离子束溅射淀积的氧化物薄膜的折射率 |
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| 引用本文： | 顾培夫,李海峰,章岳光,刘旭,唐晋发.用离子束溅射淀积的氧化物薄膜的折射率[J].光学学报,2002,22(3):90-293. |
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| 作者姓名： | 顾培夫 李海峰 章岳光 刘旭 唐晋发 |
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| 作者单位： | 浙江大学现代光学仪器国家重点实验室,杭州,310027 |
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| 基金项目： | 高等学校重点实验室访问教学基金资助课题 |
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| 摘 要： | 介绍了用于波长为1550nm光通讯波分复用／解复用滤光片的离子束溅射的Ta2O5和SiO2薄膜在法里－珀罗多层膜中的折射率的实时所 方法及拟合方法及拟合结果，给出了它们的淀积时间，淀积速率和计算的光学厚度，分析了这些结果的可靠性。
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| 关 键 词： | 离子束溅射淀积 氧化物薄膜 折射率 滤光片 光通信 波分复用器／解复用器 |
Refractive Indexes of Oxidized Thin Films Deposited by Ion Beam Sputtering |
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| Gu Peifu,Li Haifeng,Zhang Yueguang,Liu Xu,Tang Jinfa.Refractive Indexes of Oxidized Thin Films Deposited by Ion Beam Sputtering[J].Acta Optica Sinica,2002,22(3):90-293. |
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| Authors: | Gu Peifu Li Haifeng Zhang Yueguang Liu Xu Tang Jinfa |
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| Abstract: | A curve fit method and fitting results of refractive indexes of Ta 2O 5 and SiO 2 thin films deposited by using ion beam sputtering in Fabry Perot multilayer systems used for optical telecommunication dielectric thin film filters (Mux/Demux) at wavelength 1550 nm are preseted. The sputtering time, deposition rate and optical thickness of each layers of the filters are given. At last, the measured results by means of curve fitting are discussed. |
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| Keywords: | ion beam sputtering oxidized thin films refractive index |
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