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| 分光椭偏技术在铟锡氧薄膜光电特性研究中的应用 | |
| 引用本文： | 胡慧,张丽平,孟凡英,刘正新.分光椭偏技术在铟锡氧薄膜光电特性研究中的应用[J].光学学报,2014(10). |
| 作者姓名： | 胡慧 张丽平 孟凡英 刘正新 |
| 作者单位： | 中国科学院上海微系统与信息技术研究所;中国科学院大学; |
| 基金项目： | 国家自然科学基金(61204005);国家863计划(2011AA050501);中国科学院知识创新重要方向性项目(KGCX2-YW-399+11) |
| 摘 要： | 通过分光椭偏测量技术、并采用Drude和Tauc-Lorentz复合模型,研究了铟锡氧(ITO)薄膜在不同基底温度和退火过程中光学介电函数的变化。通过与霍尔效应以及光学带隙测试的数据对比,发现ITO薄膜的载流子浓度和光学带隙变化分别对材料红外和紫外波段光学介电函数有影响。通过分别研究材料在低能端和高能端的介电函数,得到光学介电函数与薄膜的载流子浓度和光学带隙的关系。该研究确定了利用非接触分光椭偏技术对ITO薄膜的电学和光学特性进行定量分析的近似方法。 |
| 关 键 词： | 薄膜 ITO薄膜 分光椭偏测量 光电性质 介电函数 |
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