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BB-520型全息介质的线性处理工艺
引用本文:李作友,叶雁,钟杰,刘振清,郑贤旭,罗振雄,李泽仁.BB-520型全息介质的线性处理工艺[J].工程物理研究院科技年报,2004(1):240-240.
作者姓名:李作友  叶雁  钟杰  刘振清  郑贤旭  罗振雄  李泽仁
摘    要:全息介质的处理技术和工艺研究是全息测试技术的关键环节,美国LANL实验室在进行Holog次临界试验时曾因散射光使记录介质严重过曝而未能获取相关信息。通过对BB-520型全息记录介质的曝光、显影、定影、水洗等工艺过程的处理液配方、处理环境、处理温度、处理时间等的研究,提出全息记录介质的处理方法。曝光量和显影时间、显影温度是相互关联的3个量,在一定范围内曝光量饱和不足时,可以通过调节显影时间和显影温度两个参数来补偿。

关 键 词:全息记录介质  工艺过程  线性处理  显影时间  测试技术  显影温度  次临界试验  曝光量
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