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CHBr薄膜制备的初步研究
引用本文:冯建鸿,黄勇,吴卫东.CHBr薄膜制备的初步研究[J].工程物理研究院科技年报,2004(1):71-72.
作者姓名:冯建鸿  黄勇  吴卫东
摘    要:碳氢(cH)及其掺杂材料常被用作ICF实验靶丸烧蚀层材料。制备CH薄膜及其掺杂材料的方法有很多,诸如:离子束辅助沉积、离子溅射沉积、低压等离子体化学气相沉积(LPPCVD)等。近年来,详细研究了LPPCVD法制备CH薄膜的制备方法与工艺,形成了比较成熟的技术路线与工艺路线,并为“神光”实验提供了一系列实验靶丸。

关 键 词:薄膜制备  等离子体化学气相沉积  离子束辅助沉积  ICF实验  掺杂材料  CH薄膜  工艺路线  PCVD法
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