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基于PEM的反应磁控溅射镀膜机参数监控系统
引用本文:李锐,张军,汪小芳,张道配,王斌华.基于PEM的反应磁控溅射镀膜机参数监控系统[J].应用声学,2014,22(10):3223-3226.
作者姓名:李锐  张军  汪小芳  张道配  王斌华
作者单位:常州工程职业技术学院,江苏 常州 213164,长安大学 公路养护装备国家工程实验室,西安 710064,常州工程职业技术学院,江苏 常州 213164,长安大学 公路养护装备国家工程实验室,西安 710064,长安大学 公路养护装备国家工程实验室,西安 710064
基金项目:长安大学中央高校基本科研业务费(2014G1251024,2013G1251032)。
摘    要:实时在线监测磁控溅射反应气体的参数可有效保证镀膜质量;针对反应磁控溅射离子镀膜机反应气体的功能需求,分析了反应气体的控制原理,基于PEM方法提出了控制器方案和反应气体的参数监控方案,分析了监控系统的功能需求,自定义了串口通信协议,基于LabVIEW和串口设计了反应气体的参数监控系统系统,并与设计的控制器用于镀膜工艺试验;试验结果表明,基于PEM方法设计的反应气体参数监控系统功能正确,可为控制器和镀膜机提供参数调控依据,为提高硬质镀膜质量提供了一套有效的监控方法。

关 键 词:磁控溅射  真空镀膜  串口通信  LabVIEW
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