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KD-S型SiC纤维表面BN界面层Raman光谱研究
引用本文:刘海山,谭瑞轩,王洪磊,葛斌,周新贵,余金山.KD-S型SiC纤维表面BN界面层Raman光谱研究[J].光谱学与光谱分析,2018(Z1).
作者姓名:刘海山  谭瑞轩  王洪磊  葛斌  周新贵  余金山
作者单位:国防科技大学空天科学学院CFC重点实验室
摘    要:由于SiC纤维具有高强度、高模量、强抗化学腐蚀性等优越性能,因此广泛用于陶瓷基复合材料的增强当中。但在高温下制备复合材料,容易使纤维与基体之间形成牢固的附着力,导致复合材料力学性能差,因此需要界面层使纤维与基体间的结合足够弱。BN具有良好的耐热性、抗氧化性和微裂纹自愈合能力,可用于解决SiC纤维增强SiC基复合材料的界面问题。CVD法是常用的制备BN界面层的工艺方法。本文以BCl3-NH_3为原料,在较低温度下通过CVD工艺制备了BN界面层。

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