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| 旋涂法和热蒸发制备紫外CCD用晕苯薄膜的性能对比 | |
| 引用本文： | 何梁,张大伟,陶春先,洪瑞金,黄元申.旋涂法和热蒸发制备紫外CCD用晕苯薄膜的性能对比[J].光谱学与光谱分析,2014,34(5):1319-1322. |
| 作者姓名： | 何梁 张大伟 陶春先 洪瑞金 黄元申 |
| 作者单位： | 何梁:上海理工大学光电信息与计算机工程学院, 上海市现代光学系统重点实验室, 教育部光学仪器与系统工程中心, 上海200093 张大伟:上海理工大学光电信息与计算机工程学院, 上海市现代光学系统重点实验室, 教育部光学仪器与系统工程中心, 上海200093 陶春先:上海理工大学光电信息与计算机工程学院, 上海市现代光学系统重点实验室, 教育部光学仪器与系统工程中心, 上海200093 洪瑞金:上海理工大学光电信息与计算机工程学院, 上海市现代光学系统重点实验室, 教育部光学仪器与系统工程中心, 上海200093 黄元申:上海理工大学光电信息与计算机工程学院, 上海市现代光学系统重点实验室, 教育部光学仪器与系统工程中心, 上海200093 |
| 基金项目： | 国家科技支撑计划项目（2011BAF02804）, 国家重大科学仪器设备开发专项项目（2011YQ15004003）, 上海市教委曙光项目（11SG44）和上海市重点学科建设项目（S30502）资助 |
| 摘 要： | 晕苯是一种用于真空紫外光致发光重要的下转换材料。本文研究旋涂法和热蒸发法制备紫外CCD用晕苯薄膜的工艺方法,并对所制备的两种薄膜的性能进行了表征和对比。测试结果表明:旋涂方式成膜工艺简单,材料利用率较高,并且保持了荧光材料本身固有的晶体结构,但是膜面粗糙度较大;热蒸发方式成膜后紫外吸收较强,荧光发射强度相对较高,成膜后膜面粗糙度较小;热蒸发工艺在加热过程中改变了晕苯的晶体结构并形成了新的结晶态;相比于旋涂法,热蒸发的整个制备工艺相对复杂,并且生产成本较高。此外,该对比性研究工作为实现不同要求(如荧光发射强度、表面粗糙度、生产成本等)的荧光下转换薄膜的制备提供了理论指导。 |
| 关 键 词： | 旋涂法 热蒸发 晕苯 紫外增强 紫外CCD |
| 收稿时间： | 2013/7/9 |
Performance Comparison of Coronene Film for UV-CCD Prepared by Spin-Coating and Physical Vapor Deposition |
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| HE Liang;ZHANG Da-wei;TAO Chun-xian;HONG Rui-jin;HUANG Yuan-shen.Performance Comparison of Coronene Film for UV-CCD Prepared by Spin-Coating and Physical Vapor Deposition[J].Spectroscopy and Spectral Analysis,2014,34(5):1319-1322. | |
| Authors: | HE Liang;ZHANG Da-wei;TAO Chun-xian;HONG Rui-jin;HUANG Yuan-shen |
| Institution: | HE Liang;ZHANG Da-wei;TAO Chun-xian;HONG Rui-jin;HUANG Yuan-shen;Shanghai Key Laboratory of Modern Optical System,School of Optical-Electrical and Computer Engineering,University of Shanghai for Science and Technology; |
| Abstract: | |
| Keywords: | Spin-coating Physical vapor deposition Coronene UV-enhanced UV CCD |
| 本文献已被 CNKI 等数据库收录！ | |