| Fe/Al混合膜的PLD法制备及表面分析 |
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| 引用本文： | 何英杰,吴卫东,张超,李俊,许华,程新路.Fe/Al混合膜的PLD法制备及表面分析[J].强激光与粒子束,2005,17(3):381-385. |
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| 作者姓名： | 何英杰 吴卫东 张超 李俊 许华 程新路 |
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| 作者单位： | 1. 四川大学 原子与分子物理所，四川 成都 610065； 2. 中国工程物理研究院 激光聚变研究中心，四川 绵阳 621900 |
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| 基金项目： | 国家863计划项目资助课题，中国工程物理研究院激光聚变研究中心创新基金资助课题 |
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| 摘 要： | 采用脉冲激光气相沉积（PLD）技术制备了Fe/Al混合膜，测量了该混合膜的光电子能谱（XPS），并采用原子力显微镜（AFM）、扫描电子显微镜（SEM）对Fe/Al混合膜作了表面分析。结果表明：Fe/Al混合膜的表面粗糙度对衬底温度有明显的依赖性， 随着衬底温度的升高，薄膜的表面逐渐变得平滑，膜层变得致密，在200 ℃衬底温度下制得了均方根（rms）粗糙度为0.154 nm、具有原子尺度光滑性的Fe/Al混合膜， 膜中Fe和Al分布比较均匀，其成分比约为1∶3，同时XPS分析也表明Fe/Al混合膜暴露在空气中后表面形成了Al2O3和FeO氧化层。
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| 关 键 词： | 冲激光气相沉积（PLD） Fe/Al混合膜 光电子能谱（XPS） 衬底温度 均方根粗糙度 |
| 文章编号： | 1001-4322(2005)03-0381-05 |
| 收稿时间： | 2004/9/15 |
| 修稿时间： | 2004年9月15日 |
Fabrication and surface analysis of Fe/Al compound films |
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| HE Ying-jie,WU Wei-dong,ZHANG Chao,LI Jun,XU Hua,CHENG Xin-lu.Fabrication and surface analysis of Fe/Al compound films[J].High Power Laser and Particle Beams,2005,17(3):381-385. |
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| Authors: | HE Ying-jie WU Wei-dong ZHANG Chao LI Jun XU Hua CHENG Xin-lu |
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| Institution: | 1. Institute of Atomic and Molecular Physics, Sichuan University, Chengdu 610065, China;2. Research Centre of Laser Fusion, CAEP, P.O.Box 919-987, Mianyang 621900, China |
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| Abstract: | Fe/Al compound thin films were fabricated by pulse laser deposition(PLD) and its X-ray photon electron spectroscopy(XPS) examinations were conducted. The surface morphology and oxidation were analyzed with atomic force microscope(AFM) and scanning electron microscope(SEM). The results show that the surface roughness of Fe/Al compound thin films depends on the substrate temperature, the higher the temperature is, the smoother the surface of the film becomes. The rms roughness of the film which was fabricated at a subseracte temperature of 200 ℃ is 0.154 nm. The distribution of Fe and Al in the film is uniform ,and the ratio between Fe and Al in the compound films is 1∶3. An oxidation layer of Al1O_3 and FeO is formed at the surface of the Fe/Al compound thin films after exposure to air. |
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| Keywords: | Pulse laser deposition Fe/Al compound thin films X-ray photon electron spectroscopy Substrate temperature Rms roughness |
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