| HfO2/SiO2双色膜在1 064 nm和532 nm激光辐照下的损伤特性 |
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| 引用本文： | 潘峰,陈松林,李海波,马平,王震.HfO2/SiO2双色膜在1 064 nm和532 nm激光辐照下的损伤特性[J].强激光与粒子束,2011,23(1). |
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| 作者姓名： | 潘峰 陈松林 李海波 马平 王震 |
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| 作者单位： | 成都精密光学工程研究中心, 成都 610041 |
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| 基金项目： | 国家高技术发展计划项目 |
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| 摘 要： | 采用电子束蒸发的方式,制备了有氧化硅内保护层和没有氧化硅内保护层的1 064 nm高透过、532 nm高反射的HfO2/SiO2双色膜,测量了它们的光学性能以及在基频和倍频激光辐照下的抗损伤性能。结果表明:氧化硅内保护层提高了双色膜在基频光辐照下的损伤阈值，对双色膜在倍频光辐照下的损伤阈值无明显影响。通过观察薄膜的损伤形貌，分析破斑的深度信息结合驻波场分布，对两类双色膜在基频光和倍频光下的损伤机制做了初步探讨。分析表明:氧化硅内保护层提高了膜基界面的抗损伤性能，从而提高了双色膜在基频光下的损伤阈值。
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| 关 键 词： | 双色膜 内保护层 基频光 倍频光 激光损伤 |
| 收稿时间： | 1900-01-01; |
Laser-induced damage of 1 064 am antireflection/532 am high-reflection bichromatic coatings |
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| Pan Feng,Chen Songlin,Li Haibo,Ma Ping,Wang Zhen.Laser-induced damage of 1 064 am antireflection/532 am high-reflection bichromatic coatings[J].High Power Laser and Particle Beams,2011,23(1). |
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| Authors: | Pan Feng Chen Songlin Li Haibo Ma Ping Wang Zhen |
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| Institution: | Chengdu Fine Optical Engineering Research Center, Chengdu 610041, China |
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| Abstract: | 1 064 nm antireflection/532 nm high-reflection bichromatic coatings with and without barrier layer were fabricated on the UBK7 substrate using electron beam evaporation technique.The optical property and laser-induced damage threshold(LIDT) of the coatings were investigated,respectively.Compared with the coatings without barrier layer,the 1 064 nm LIDT of the bichromatic coatings with SiO2 barrier layer is 49.6% higher.By analyzing the morphology and depth information of laser-induced damage spots,and the s... |
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| Keywords: | bichromatic coating barrier layer fundamental wavelength beam harmonic beam laser-induced damage |
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