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太赫兹金属双光栅超厚胶光刻工艺
引用本文:单云冲,阮久福,杨军,邓光晟,吕国强.太赫兹金属双光栅超厚胶光刻工艺[J].强激光与粒子束,2014,26(5):53102-211.
作者姓名:单云冲  阮久福  杨军  邓光晟  吕国强
作者单位:单云冲:特种显示技术教育部重点实验室(合肥工业大学), 合肥 230009合肥工业大学 光电技术研究院, 合肥 230009合肥工业大学 仪器科学与光电工程学院, 合肥 230009
阮久福:特种显示技术教育部重点实验室(合肥工业大学), 合肥 230009合肥工业大学 光电技术研究院, 合肥 230009
杨军:特种显示技术教育部重点实验室(合肥工业大学), 合肥 230009合肥工业大学 光电技术研究院, 合肥 230009
邓光晟:特种显示技术教育部重点实验室(合肥工业大学), 合肥 230009合肥工业大学 光电技术研究院, 合肥 230009
吕国强:特种显示技术教育部重点实验室(合肥工业大学), 合肥 230009合肥工业大学 光电技术研究院, 合肥 230009
基金项目:中央高校基本科研业务费专项资金项目(2012HGQC0007)
摘    要:介绍了制备某太赫兹频率真空辐射光栅的超厚胶光刻工艺,针对工艺中的难点(大厚度和高深宽比)展开了深入分析。实验分析了基片处理、涂胶、前烘、曝光、后烘、显影等工艺过程对光刻的影响,通过优化工艺参数,解决了胶膜脱落、开裂,不同胶层间的结合,光栅沟槽间的光刻胶残留等问题,成功制备了厚度为700μm、深宽比为14的侧壁陡直、表面平整的双光栅结构胶膜。

关 键 词:双光栅  太赫兹  光刻  超厚胶  深宽比
收稿时间:2013/7/2

Terahertz metal bi-grating fabrication using ultra-thick photoresist process
Abstract:
Keywords:bi-grating  terahertz  photoetching  ultra-thick photoresist  aspect ratio
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