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| 波长1064nm脉冲激光高阈值反射膜的研制 | |
| 引用本文： | 付雄鹰,孔明东,胡建平,范正修.波长1064nm脉冲激光高阈值反射膜的研制[J].强激光与粒子束,1999,11(4). |
| 作者姓名： | 付雄鹰 孔明东 胡建平 范正修 |
| 作者单位： | 1.成都精密光学工程研究中心，成都610004;2.中国科学院上海光机所，上海 201800 |
| 摘 要： | 研究HfO2/SiO2高反射膜的制备工艺及其激光诱导损伤阈值的比较测试，分别采用了反应蒸镀HfO2、反应离子辅助蒸镀HfO2、反应离子辅助蒸镀金属Hf的源材料形成HfO2薄膜。采用这三种工艺制备了HfO2/SiO2高反射膜，在中心波长1064nm处，反射率 R≥99.5%，其中反应蒸镀HfO2/SiO2高反射膜损伤阈值最高，可达60J/cm2(1064nm，5ns)。 |
| 关 键 词： | HfO2/SiO2反射膜 激光诱导损伤阈值 电子束蒸发 等离子辅助沉积 |
| 收稿时间： | 1900-01-01; |
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