| 负偏压对磁控溅射Ti膜沉积速率和表面形貌的影响 |
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| 引用本文： | 段玲珑,吴卫东,何智兵,许华,唐永建,徐金城.负偏压对磁控溅射Ti膜沉积速率和表面形貌的影响[J].强激光与粒子束,2008,20(3):505-508. |
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| 作者姓名： | 段玲珑 吴卫东 何智兵 许华 唐永建 徐金城 |
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| 作者单位： | 1． 兰州大学 物理科学与技术学院 材料物理与化学实验室，兰州 730000；2． 中国工程物理研究院 激光聚变研究中心， 四川 绵阳 621900; 3. 中国工程物理研究院科技信息中心, 四川 绵阳 621900 |
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| 摘 要： | 采用直流磁控溅射加负偏压的方法制备了Ti膜，研究了不同偏压条件对Ti膜沉积速率、密度、生长方式及表面形貌的影响。随着偏压逐渐增大，Ti膜沉积速率分三个阶段变化:0~ -40 V之间沉积速率基本不变; -40~ -80 V之间沉积速率迅速降低;超过-80 V后沉积速率随偏压的下降速度又放缓。Ti膜密度随偏压增加而增大，负偏压为-119.1 V时开始饱和并趋于块体Ti材密度。加负偏压能够抑制Ti膜的柱状生长方式；偏压可以改善Ti膜的表面形貌，对于40 W和100 W的溅射功率，负偏压分别在-100 V和-80 V左右时制备出表面光洁性能较佳的Ti膜。
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| 关 键 词： | Ti薄膜 磁控溅射 负偏压 沉积速率 表面形貌 |
| 文章编号： | 1001-4322(2008)03-0505-04 |
| 收稿时间： | 2007/10/15 |
| 修稿时间： | 2007年10月15 |
Effects of negative bias on structure and surface topography of Titanium films deposited by DC magnetron sputtering |
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| DUAN Ling-long,WU Wei-dong,HE Zhi-bing,XU Hua,TANG Yong-jian,XU Jin-cheng.Effects of negative bias on structure and surface topography of Titanium films deposited by DC magnetron sputtering[J].High Power Laser and Particle Beams,2008,20(3):505-508. |
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| Authors: | DUAN Ling-long WU Wei-dong HE Zhi-bing XU Hua TANG Yong-jian XU Jin-cheng |
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| Institution: | 1. Laboratory of Material Physics and Chemistry, Department of Physics Science and Technology, Lanzhou University, Lanzhou 730000, China; 2. Research Center of Laser Fusion, CAEP, P.O.Box 919-987, Mianyang 621900, China; 3. Information Center of Science and Technology, CAEP, P. O. Box 919-803, Mianyang 621900, China |
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| Abstract: | 作者简介：联系作者:吴卫东,中国工程物理研究院激光聚变研究中心;wuweidongding@163.com. |
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| Keywords: | Negative bias Magnetron sputtering Deposition rate Surface topography |
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