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蓝宝石基片的处理方法对ZnO薄膜生长行为的影响
引用本文:刘 明,刘志文,谷建峰,秦福文,马春雨,张庆瑜.蓝宝石基片的处理方法对ZnO薄膜生长行为的影响[J].中国物理 B,2008,17(2):1133-1140.
作者姓名:刘 明  刘志文  谷建峰  秦福文  马春雨  张庆瑜
作者单位:大连理工大学三束材料改性国家重点实验室,大连 116024;大连理工大学三束材料改性国家重点实验室,大连 116024;大连理工大学三束材料改性国家重点实验室,大连 116024;大连理工大学三束材料改性国家重点实验室,大连 116024;大连理工大学三束材料改性国家重点实验室,大连 116024;大连理工大学三束材料改性国家重点实验室,大连 116024
基金项目:国家自然科学基金(批准号:10605009)资助的课题.
摘    要:采用反应射频磁控溅射方法,在经过不同方法处理的蓝宝石基片上,在同一条件下沉积了ZnO薄膜.利用原子力显微镜、X射线衍射、反射式高能电子衍射等分析技术,对基片和薄膜的结构、表面形貌进行了系统表征.研究结果显示,不同退火条件下的蓝宝石基片表面结构之间没有本质的差异,均为α-Al2O3 (001)晶面,但基片表面形貌的变化较大.在不同方法处理的蓝宝石基片上生长的ZnO薄膜均具有高c轴取向的织构特征,但薄膜的表面形貌差异较大.基片经真空退火处

关 键 词:ZnO薄膜,  反应磁控溅射,  基片处理,  形貌分析

Effect of sapphire substrate pre-treatment on the growth of ZnO films
Liu Ming,Liu Zhi-Wen,Gu Jian-Feng,Qin Fu-Wen,Ma Chun-Yu and Zhang Qing-Yu.Effect of sapphire substrate pre-treatment on the growth of ZnO films[J].Chinese Physics B,2008,17(2):1133-1140.
Authors:Liu Ming  Liu Zhi-Wen  Gu Jian-Feng  Qin Fu-Wen  Ma Chun-Yu and Zhang Qing-Yu
Abstract:
Keywords:ZnO film  reactive radio-frequency magnetron sputtering  substrate pretreatments  morphological analysis
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