| 镀膜锰铜计的压阻性能研究 |
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| 引用本文： | 施尚春,程菊鑫.镀膜锰铜计的压阻性能研究[J].高压物理学报,1992,6(1):68-74. |
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| 作者姓名： | 施尚春 程菊鑫 |
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| 作者单位： | 成都科技大学应用物理研究所，成都科技大学应用物理研究所，成都科技大学应用物理研究所，中国工程物理研究院流体物理研究所，中国工程物理研究院流体物理研究所 成都市 610065，成都市 610065，成都市 610065，成都523信箱 610003，成都523信箱 610003 |
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| 基金项目： | 中国工程物理研究院预研基金 |
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| 摘 要： | 用磁控阴极等离子体溅射技术在云母基底上制作镀膜锰铜压阻计。5~56 GPa冲击应力的标定实验表明，该计的压阻性能稳定。压阻系数的拟合式为p(GPa)=-0.14+90.63(ΔR/R0)+10.81(ΔR/R0)2-7.64(ΔR/R0)3，式中R0为锰铜计初始电阻，ΔR为受压时的电阻变化值。
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| 关 键 词： | 镀膜锰铜计 冲击应力 压阻系数 |
| 收稿时间： | 1991-09-27; |
A PLATING MANGANIN PIEZORESISTANCE GAUGE |
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| Shi Shangchun,Zhang Qingfu,Luo Jiaoming.A PLATING MANGANIN PIEZORESISTANCE GAUGE[J].Chinese Journal of High Pressure Physics,1992,6(1):68-74. |
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| Authors: | Shi Shangchun Zhang Qingfu Luo Jiaoming |
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| Institution: | 1. Institute of Applied Physics, Chengdu University of Science and Technology, Chengdu 610065, China;2. Southwest Institute of Fluid Physics, Chengdu 610003, China |
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| Abstract: | The magnetically controlled cathode plasma sputtering technique has been successfully used to manufacture a plating-type manganin piezoresistance gauge on a mica matrix plate. Calibration experiments under pressures 5 to 6 GPa show that the piezoresistance behavior is well-reproduceable. The pressure-piezoresistance fit of the gauge can be written as p(GPa)=-0.14+90.63(ΔR/R0)+10.81(ΔR/R0)2-7.64(ΔR/R0)3, here, R0 is the initial resistance of the gauges, ΔR the resistance increment under shock loading. |
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| Keywords: | plating manganin gauge shock pressure piezoresistance coefficient |
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