| 纳秒激光刻蚀玻璃基质铬薄膜直写微光栅结构 |
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| 引用本文： | 张恒,周云,周雷,陈林森.纳秒激光刻蚀玻璃基质铬薄膜直写微光栅结构[J].光子学报,2009,38(2). |
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| 作者姓名： | 张恒 周云 周雷 陈林森 |
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| 作者单位： | 苏州大学,信息光学工程研究所,江苏,苏州,215006
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| 基金项目： | 国家自然科学基金，国家高技术研究发展计划(863计划) |
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| 摘 要： | 利用波长为351 nm的半导体泵浦全固态脉冲激光器,采用双光束干涉方法,对蒸镀在石英玻璃衬底上的铬薄膜直接刻蚀形成微光栅结构的方法进行了实验研究.通过实验,分析了激光能量和脉冲数与微光栅结构槽形和一级衍射效率之间的关系.利用光学显微镜和原子力显微镜检测分析光栅槽形,测得槽深为253 nm的最佳微光栅结构,并测得其在波长为532 nm的激光的一级衍射效率为6.5%.结果表明:在激光能量为1 150 μJ时,适当增加曝光脉冲数有利于提高制备光栅的槽深和一级衍射效率.
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| 关 键 词： | 纳秒激光 微光栅结构 衍射效率 刻蚀 |
Fabrication of Micro-grating Structures by Nanosecond Laser Ablation of Chrome Film on Glass Substrate |
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| ZHANG Heng,ZHOU Yun,ZHOU Lei,CHEN Lin-sen.Fabrication of Micro-grating Structures by Nanosecond Laser Ablation of Chrome Film on Glass Substrate[J].Acta Photonica Sinica,2009,38(2). |
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| Authors: | ZHANG Heng ZHOU Yun ZHOU Lei CHEN Lin-sen |
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