首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
     检索      

键合Si/Sip-n结电学输运特性及电场增强效应研究
引用本文:彭强,何盛泉,任良斌,李杏莲,柯少颖.键合Si/Sip-n结电学输运特性及电场增强效应研究[J].光子学报,2020,49(10):79-88.
作者姓名:彭强  何盛泉  任良斌  李杏莲  柯少颖
作者单位:闽南师范大学 物理与信息工程学院,福建 漳州 363000,闽南师范大学 物理与信息工程学院,福建 漳州 363000,闽南师范大学 物理与信息工程学院,福建 漳州 363000,闽南师范大学 物理与信息工程学院,福建 漳州 363000,闽南师范大学 物理与信息工程学院,福建 漳州 363000
基金项目:漳州市自然科学基金;国家自然科学基金;闽南师范大学校长基金
摘    要:

关 键 词:薄膜  氧化层  Si/Si键合  载流子隧穿  电场

Study of Electronic Transport Characteristic and Electric Field Enhancement Effect of Wafer-bonded Si/Si p-n Junction
PENG Qiang,HE Sheng-quan,REN Liang-bin,LI Xing-lian,KE Shao-ying.Study of Electronic Transport Characteristic and Electric Field Enhancement Effect of Wafer-bonded Si/Si p-n Junction[J].Acta Photonica Sinica,2020,49(10):79-88.
Authors:PENG Qiang  HE Sheng-quan  REN Liang-bin  LI Xing-lian  KE Shao-ying
Abstract:
Keywords:
本文献已被 万方数据 等数据库收录!
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号