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基于压电效应的光电子集成技术研究进展(特邀)
引用本文:沈健,冯成龙,张洵,张磊,舒畅,张永,苏翼凯.基于压电效应的光电子集成技术研究进展(特邀)[J].光子学报,2023(11):8-29.
作者姓名:沈健  冯成龙  张洵  张磊  舒畅  张永  苏翼凯
作者单位:上海交通大学区域光纤通信网与新型光通信系统国家重点实验室电子工程系
基金项目:国家自然科学基金(Nos.62335014,61975115,61835008)~~;
摘    要:压电效应是一种实现电能与机械能之间相互转换的重要物理现象。随着集成光电子技术和压电薄膜材料制备技术的日益成熟,压电效应在光电子集成芯片领域引起广泛的研究。在压电效应的作用下,外部电场可以操控薄膜材料的形变,从而改变折射率,实现光电调谐和声光调制。本文首先介绍常见压电薄膜材料及其研究进展,随后回顾和探讨基于压电效应的光电子集成器件的研究进展。最后,对压电调谐器件和声光调制器的应用进行介绍和展望,分析其大规模应用面临的挑战和问题。

关 键 词:硅基光电子学  压电效应  可调谐器件  声光调制器  光电子集成芯片
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